Teses e Dissertações
Palavra-chave: RF magnetron sputtering
Dispositivo Sináptico Baseado Nas Propriedades Optoeletrônicas De Transistores De Filmes Fino De Óxido De Zinco
Jose Henrique Ferreira Nobre, Edson Laureto
Data da defesa: 30/06/2023
Sinapses optoeletrônicas podem ser geradas com dispositivos que utilizam radiação
eletromagnética para emular a plasticidade sináptica e suas funções relacionadas.
Tais dispositivos são considerados elementos chave para a implementação de
sistemas de computação neuromórfica, ou seja, baseados no funcionamento do
cérebro, com propriedades de sensoriamento, memória e aprendizagem. Neste
trabalho é demonstrado um dispositivo optoeletrônico com propriedades sinápticas
baseado na configuração de transistor de filme fino (TFT), tendo como canal
semicondutor um filme de óxido de zinco (ZnO) depositado por RF magnetron
sputtering. As propriedades sinápticas tiram vantagem do fenômeno de
fotocondutividade persistente (PPC) apresentado pelo filme de ZnO. Esse efeito afeta
o comportamento da intensidade de corrente elétrica medida entre os eletrodos de
dreno e fonte (), para uma determinada diferença de potencial aplicada ao eletrodo
de porta (gate, ), mediante a incidência de luz no canal. Com isso, as funções
sinápticas de sensoriamento, memória de curto e de longo prazo, aprendizagem e
reaprendizagem, e facilitação por pulso emparelhado, são verificadas no TFT de ZnO.
Realizamos a comparação de dispositivos antes e depois de tratamento térmico,
apresentando diferentes melhorias com doses menores de exposição à luz para os
dispositivos tratados termicamente. As variações em causadas pela iluminação com
radiação ultravioleta (UV) chegam a ser da ordem de 108 A, o que demonstra a alta
sensibilidade do dispositivo, sendo um aspecto crucial para sua eficácia quanto ao
reconhecimento e discriminação do estímulo luminoso. Embora o transistor não seja
o dispositivo de estrutura mais simples, apresentamos as vantagens e desvantagens
da utilização do mesmo como um dispositivo sináptico.
Influência Dos Parâmetros De Deposição De Rf Magnetron Sputtering Na Otimização Das Propriedades Físico-Químicas De Filmes Finos De Óxido Litiado Ternário Depositado Sobre Substrato Flexível De Kapton
Daniel Andres Sanchez Lopes, Alexandre Urbano
Data da defesa: 30/06/2023
As baterias recarregáveis de íon lítio estão presentes nos mais diversos equipamentos
elétricos e eletrônicos, impulsionadas pela sua alta densidade de energia em pequenos
volumes e pesos. A eletrônica flexível tem crescido na esteira de outras tecnologias como
dispositivos implantáveis e tecnologia das coisas, e as baterias de íon lítio podem ocupar
também essa lacuna como fonte de energia. Os métodos de produção de baterias de íon
lítio convencionais utilizam-se de sistemas rígidos, além de conterem eletrólitos líquidos
que diminuem a segurança dos dispositivos. Uma alternativa na produção de baterias de íon lítio é a confecção de eletrodos de filmes finos por técnicas físicas como o sputtering.
Dentre as vantagens desse processo destaca-se ser desnecessário a adição de ligantes e
condutores eletrônicos que promovem diminuição na energia específica da bateria. Com
o objetivo de produzir filmes finos de óxido de metal de transição litiado ternário (Ni, Mn
e Co), foram investigadas neste trabalho formas de se produzir essas películas que
otimizem a sua capacidade de descarga eletroquímica sem, contudo, necessitar de
tratamentos térmicos, tanto in situ como a posteriori, o que possibilita o emprego de
substratos flexíveis. Os filmes foram investigados segundo um planejamento fatorial de
experimentos com 4 variáveis (potência, pressão, espessura e porcentagem de O2) em dois
níveis mais ponto central. Diversas técnicas foram empregadas para caracterizar as
propriedades físicas e químicas, com destaque para avaliação eletroquímica de
desempenho da capacidade de descarga elétrica. Os resultados do planejamento
indicaram as melhores condições de deposição e a amostra otimizada apresentou uma
capacidade de descarga de 212 mAhg-1, 50% maior do que os eletrodos convencionais.
Com esse trabalho mostra-se ser possível obter filmes com alta capacidade sem
necessidade de tratamentos térmicos, o que pode contribuir para o futuro
desenvolvimento da eletrônica flexível beneficiando a humanidade com dispositivos
eletrônicos voltados para saúde e bem estar social.
FILMES FINOS DE ÓXIDOS TERNÁRIOS LITIADOS Li(NiCoMn)O2 DEPOSITADOS POR RF MAGNETRON SPUTTERING
Daniel Andres Sanchez Lopez, Alexandre Urbano
Data da defesa: 26/10/2018
A demanda crescente por baterias com altas densidades de energia, para dispositivos
portáteis e veículos elétricos, esbarra na origem esgotável dos materiais atualmente
empregados. A previsão de esgotamento das reservas de cobalto, principal
componente das baterias de íon lítio, é entorno de cinquenta anos. Os óxidos de
metais de transição ternários do tipo lamelar com parcial substituição do cobalto em
sua composição (LiNi 1/3 Co 1/3 Mn 1/3 O 2 ) são os compostos mais promissores para
substituírem os eletrodos ricos em cobalto (LiCoO 2 ), e isso já vem acontecendo
comercialmente. Contudo, a eficiência desse material como eletrodo não é
plenamente alcançada devido à instabilidade dos eletrólitos nos altos potenciais de
oxidação requeridos nos processos de carga. Nesse trabalho, filmes finos foram
depositados por RF sputtering com objetivo de compreender como as propriedades
cristalográficas e morfológicas dos eletrodos ternários podem impactar na otimização
da sua eficiência eletroquímica. Os parâmetros de deposição que influenciam na
estequiometria, morfologia superficial e rendimento eletroquimico foram investigados
utilizando-se um planejamento fatorial de experimentos do tipo 2 2 , sendo a
composição atômica, a caracterização cristalográfica, a morfológica, e a eletroquímica
dos filmes ternários caracterizadas respectivamente por fluorescência de raios X,
difração raios X, espectroscopia no infravermelho, microscopia de força atômica, e
cronopotenciometria. Cada experimento do planejamento mostrou filmes
relativamente diferentes tanto em morfologia como em composição química. As
medidas de difração e fluorescência de raios X indicam, respectivamente, eletrodos
parcialmente cristalinos com pronunciada orientação preferencial e concentrações
maiores de manganês em relação aos outros metais, para todos os filmes depositados
por sputtering. Os estudos topográficos exibiram filmes com morfologia granular e
tamanhos de grãos diferentes, diretamente dependentes da potência de deposição. A
capacidade de carga dos filmes sofre forte influência da potência de deposição, que
produz filmes subestequiométricos e com maior rugosidade superficial. O valor da
capacidade de carga para o filme depositado com 100 W e 5 mL/min foi de
aproximadamente 250 mAh/g, valor superior ao encontrado na literatura para
eletrodos convencionais em pó com aditivos que é de 200 mAh/g. Esses resultados
revelaram que os caminhos a serem trilhados para se aumentar a capacidade de
carga dos eletrodos de baterias recarregáveis de íon lítio com óxidos ternários, que
mais se relaciona com as características morfológicas e cristalográficas do que com a
concentração de metais.